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Übersicht-Veröffentlichung

Titel: Reflectometry System

Beschreibung:

A reflectometry system was needed for current cleanroom microfabrication activities as the photoresist thickness mapping and thin films basic characterization.The decision was based on versatile capabilities:1) Thin-Film Small-Spot Mapping System and autofocus2) Compatible with wafers up to 300 mm3) Equipped with microscope

Bekanntmachungsart:

Kerndaten für die Bekanntgabe von vergebenen Aufträgen und abgeschlossenen Rahmenvereinbarungen (Anhang VIII, 2. Abschnitt, Z 1 BVergG 2018)

Veröffentlicht am:

30.11.2020

Dokumentnummer:

KDX767436-2020

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